中國半導體｜國產DUV光刻機突破 專家指非ASML最大威脅
中國上海國資企業據報開始生產浸潤式DUV光刻機，預計今年產5台、明年增至20台，首批供中芯國際等廠商。分析師指國產機要證明能全年無休商用運作仍有難度，ASML股價一度跌逾8%。最大風險反而是美國MATCH Act若通過，切斷維修支援或加速中國自製設備發展。
【揀報】中國上海一家國資背景企業據報已開始生產浸潤式深紫外光（DUV）光刻機，預計今年產約5台、2027年增至20台，首批機台將供應中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲。分析師警告，國產機要證明能在晶圓廠全年無休運作仍有極大難度。 消息傳出後，ASML股價一度急跌逾8%，最終收跌5.8%。DGA-Albright Stonebridge Group合夥人Paul Triolo表示，生產複雜的浸潤式DUV光刻機，要達到商業化且全年無休運作極其困難 (commercially viable 24/7 operation)。Jefferies分析師William Beavington指出，過去中國相關進展多次被證實為虛假，最新聲稱仍待驗證。 目前中國晶圓廠仍高度依賴進口設備。據美國銀行數據，安徽省3月半導體設備進口額達2.26億美元，較去年下半年月均值翻倍，其中光刻系統佔57%。Beavington強調，中國廠商仍有強烈誘因繼續使用ASML設備，因其質素遠勝國產機台 (superior quality)。 分析師認為，ASML面臨的最大威脅並非中國自製進展，而是美國國會正審議的《多邊技術控制硬件法案》（MATCH Act）。該法案若通過，將禁止向中國出售浸潤式DUV系統，並限制對中國關鍵半導體製造設施的技術支援。Triolo警告，若法案迫使ASML撤走工程師，將大幅加速中國自主設備發展 (shot in the arm)。 中國DUV光刻機研發由國家主導系統整合計劃，上海微電子設備、北京科益鴻遠光電、北京優精密科技及艾邁斯科技等企業參與關鍵子系統供應。Triolo表示，這種模式類似ASML的供應鏈協同，而非單一「中國版ASML」企業。
新聞來源：《CNA》